RUIDU 科研型纳米压印光刻系统 RD-NIL100

可实现图案转移分辨率	分辨率<50nm，可同时实现UV紫外固化和热压印两种模式
压印精度控制及均匀性	在紫外固化模式下，可实现5:1深宽比，优异的压印高度均匀性
热压印	230℃；100°C/min升温速度；可以根据压印材料，通过软件实现不同温度控制
UV光源	配置i-line 365nm光源，光源能量值可达400mW/cm²
压力控制	真空腔≤100Pa；气压腔0.0-0.3bar，采用进口干泵机
压印平台	平整度TTV<5μm，确保长期的高精度、高稳定性
检测模块	配置气压及温度检测模块,与软件配套，可实现特定环境的控制
通讯接口	USB2.0标准计算机与仪器通讯接口
压印室尺寸	直径~105mm，高度~12mm（4寸）
应用软件	支持自定义：可根据客户压印材料不同，控制不同气温，UV紫外照射时间及量
	操作控制：提供简单易操作的控制流程，同时支持管理员模式更改个别需求参数
	实时监控：监控压印腔体内的温度、压力数据，实时反映在监控软件上

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