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RUIDU EHD纳米薄膜制备系统 RD-EHDC100

    系统说明 RUIDU EHD纳米薄膜制备系统 RD-EHDC100


    RUIDU EHD纳米薄膜制备系统 RD-EHDC100,是一套集先进的电流体喷雾技术和运动控制技术于一体的微量精细雾化喷涂系统。可制备膜厚20nm-50μm范围内的纳米薄膜。可应用于太阳能电池、燃料电池等领域的科学研究和生产。 


     产品特点 


    •● 桌面型电流体雾化制膜设备

    ●• 高效、均匀、精细喷涂,适用于平面、曲面、复杂微纳表面等

    •● 可实现单层<20nm的制膜厚度


    * RUIDU可持续提供喷头等相关耗材。


    • 技术参数
    • 喷涂视频
    • 相关应用

    RUIDU EHD纳米薄膜制备系统 RD-EHDC100

    雾滴体积

    fL量级

    单次幅面

    0.5-2cm

    膜厚min

    ~20nm

    厚度均匀性

    ±5%

    喷头种类

    单通道

    同轴喷头

    多喷头(可定制)

    高精度供液系统可调流速范围

    ≤500cps

    适应材料粘度范围

    ≤500cps

    适应材料种类

    钙钛矿、光刻胶、树脂、纳米功能材料、聚合物单体等有机/无机墨水

    适用基材及表面

    FTO、ITO、微纳表面等

    p.s.为保持服务的专业性及稳定性,睿度光电产品均无代理,烦请通过以下方式与我司联系,

    咨询邮箱:service@rd-mv.com,电话:+86-21-51816409



    RUIDU EHD纳米薄膜制备系统 RD-EHDC100

    ▲ 雾化制膜

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    RUIDU EHD纳米薄膜制备系统 RD-EHDC100

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